Hiden Analytical
Hiden Analytical
Un sistema per il monitoraggio di sorgenti multiple in applicazioni di deposizione MBE
Per l'analisi dei fasci molecolari e il controllo del rate di deposizione
Le sorgenti di fasci molecolari richiedono un controllo accurato per la crescita di film sottili con una qualità di produzione riproducibile. Il sistema XBS fornisce un monitoraggio in situ di sorgenti multiple con un segnale real time in uscita per un controllo preciso della deposizione.
Una sonda di Langmuir avanzata per la diagnostica dei plasmi
Misura le proprietà elettriche di un plasma a bassa pressione
Il monitoraggio delle caratteristiche I-V di un plasma mediate la sonda ESPion fornisce informazioni dirette riguardo la stabilità e riproducibilità del plasma. L'estrapolazione in tempo reale dei parametri del plasma fornisce informazioni dettagliate sulle proprietà del plasma, da utilizzare nella caratterizzazione e nel controllo dell'uniformità.
Un analizzatore di massa ed energia per la diagnostica dei plasmi
Misura lo spettro di massa di ioni, neutri e radicali in un plasma
Le sonde per plasma della Hiden misurano alcuni dei parametri chiave dei plasmi e forniscono informazioni dettagliate sulla chimica delle reazioni che vi avvengono.
Un analizzatore di gas residui per l'analisi di processi in vuoto
Misura la composizione dei processi in vuoto, la composizione dei gas e rileva le perdite
Il HPR-30 è un analizzatore di gas residui configurato per l'analisi di gas e vapori in vuoto e per la diagnostica del vuoto. Il sistema è interamente configurabile per applicazioni specifiche, come CVD, etching al plasma, MOCVD, controllo della purezza dei gas e della presenza di contaminanti.
Sottocategorie
Analisi dei gas
Analizzatori di gas in tempo reale con il più ampio spettro di campi di applicazione
Catalisi e analisi termica
Microreattori automatizzati e combinati con spettrometro di massa per la ricerca sui catalizzatori
Film sottili, plasmi e ingegneria delle superfici
RGA (analisi dei gas residui),analisi degli ioni del plasma, analisi delle superfici e SIMS (spettrometria di massa di ioni secondari) con rilevamento del prodotto finale
Analisi dei gas residui
Analisi di gas e vapori in camere da vuoto e processi
Pagina 8 di 20