Per l'analisi degli ioni positivi e negativi, dei neutri e dei radicali dai processi al plasma

Misura lo spettro di massa e la distribuzione di energia di ioni, neutri e radicali in un plasma

Il sistema EQP misura direttamente la massa di ioni di processo sia positivi sia negativi, misurando masse fino a 2500 amu ed energie fino a 1000 eV.

Sommario

Le sonde della Hiden misurano alcuni dei parametri chiave del plasma e forniscono informazioni dettagliate riguardo la chimica delle reazioni che vi avvengono.

La comprensione dettagliata delle cinetiche di reazione degli ioni e delle specie neutre in un plasma gioca un ruolo chiave nello sviluppo di processi di ingegneria superficiale al plasma, come il HIPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering).

La sorgente per il bombardamento elettronico permette l'analisi delle specie neutre e, con l'aggiunta del modo EAMS (electron attachment mass spectrometry), la separazione e identificazione dei radicali elettronegativi.

Caratteristiche

  • Ottica di estrazione degli ioni a controllo Software per minimizzare la perturbazione del plasma.
  • Analizzatore elettrostatico a 45°, scansione di energia con incrementi di 0.05eV/0.25eV FWHM
  • Minima perturbazione del percorso degli ioni e trasmissione costante a tutte le energie.
  • Triplo filtro a quadrupolo con pompaggio differenziale, disponibile con range di masse fino a 2500amu.
  • Rivelatore per conteggio di ioni pulsati ad alta sensibilità/stabilità con range dinamico di 7 decadi.
  • Ionizzatore integrale calibrabile per spettrometria di massa a pontenziale apparente
  • Misuratore di pressione Penning e interlock per la protezione dalle sovrapressioni.
  • Gating del segnale e gating programmabile opzionale per studi con risoluzione temporale di plasmi pulsati.
  • Opzione per 1000eV, opzione flottante fino a to 10keV, coppa di Faraday per plasmi ad alta densità.
  • Disponibili schermaggi in Mu-Metal e Radio-metal, opzione per il funzionamento ad alta pressione.
  • Controllo con MASsoft via RS232, RS485 o LAN Ethernet.

Specifiche

Range di masse

300, 510, o 1000 amu

Analisi degli ioni

Ioni positivi e negativi

Analisi dei neutri

Neutri e radicali neutri

Pressione del plasma (standard)

Fino a 0.5 mbar 

Pressione del plasma (opzionale)

fino o 2 mbar, 100 mbar e pressione atmosferica

Opzioni di campionamento

Elettrodi di campionamento polarizzati in DC e RF

Range di analisi dell'energia

100 eV o 1000 eV