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Sorgente Plasma Cracker PCS-RF |
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Caratteristiche:
- Unità di auto sintonia RF per una sorgente accoppiata induttivamente.
- Sorgente RF atomica: accoppiata induttivamente - 13,56 MHz.
- Progetto coassiale esclusivo, per un facile montaggio virtualmente su tutti i sistemi di vuoto.
- Funzionamento a basso flusso per applicazioni di cresciata ad azoto diluito (GaAsN).
- Regolabile con continuità da flussi atomici molto piccoli a molto grandi.
- Senza filamento: l'assenza di un filamento caldo per creare il plasma permete il funzionamento con la maggior parte dei gas, compresi quelli reattivi come O2, cloro, N2 e H2.
- Camicia di raffreddamento ad acqua integrale, per un minimo carido di calore sul sistema.
Applicazioni:
- Azoto
Azotatura: GaN, AlN, InN, SiN
Dapaggio: ZnSe
Leghe: GaAlAsN
Pulizia
Miglioramento della crescita / surfactant In-situ etching
- Ossigeno
Crescita di ossidi: superconduttori HTc, coating ottici, dielettrici, crescita di ceramiche, Al2O3
Sputtering reattivo, ablazione laser
Pulizia a ossigeno, ossidazione cinetica
Assidazione post crescita/bassa temperatura: SiO2
- Idrogeno
Pulizia
Miglioramento della crescita / surfattante
- Cloro
In-situ etching
- Metano
SiC
Descrizione del prodotto:
La sorgente al plasma RF della Oxford Scientific è realmente compatibile UHV. Completamente cuocibile, con una camicia da vuoto in acciaio inossidabile interamente saldata e un raffreddamento eccezionale grazie a una camicia ad acqua che circonda la zona calda, è adatta per essere usata in livelli di vuoto che vanno da HV fino a quelli trovati nelle più difficili applicazioni di MBE. La RF Plasma Atom Source è adatta principalmente per trattamenti superficiali e crescita di campioni a bassa energia e piccolo danno. Un'apertura progettata appositamente inibisce il rilascio di ioni dal plasma mentre permette la diffusione di atomi e molecole neutri. Le particelle rilasciate sono fortemente termalizzate (<1eV) e sono quindi adatte per essere usate nella crescita di semiconduttori e in applicazioni di pulizia e trattamento delle superfici. Qualsiasi corrente ionica residua può essere rimossa usando la trappola ionica opzionale, nei casi in cui questo possa essere un problema. Il circuito ad acqua è interamente in acciaio inossidabile (non ci sono tubi di rame) ed è costruito con saldature, offrendo una stabilità meccanica e termica eccezionali.
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