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Sorgente al plasma mini MPS-ECR |
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Caratteristiche:
- Senza filamento
L'assenza di un filamento caldo per creare il plasma permette il funzionamento con la maggior parte dei gas, compresi quelli reattivi come l'ossigeno, il cloro e l'idrogeno.
- Non è necessaria una regolazione delle microonde
Basta spegnere e accendere il plasma
- Diaframma otturatore integrato e controllo opzionale della corrente
Permette di misurare la densità del fascio e la corrente residua mentre il fascio è bloccato
- Degasaggio di preparazione veloce ~1minute
Basta rimuovere il generatore di microonde e i cavi (non è necessario smontare la camicia di raffreddamento ad acqua)
- Generatore/regolatore di microonde integrato
Elimina la necessita di installare una guida d'onda. Il sofisticato regolatore di microonde permette di ottenere una regolazione ottimizzata per ciascun modo.
Applicazioni:
- Argon
- Ion Beam Deposition
- Ion Beam Assisted Deposition (IBAD)
- Ossigeno
- Crescita di ossidi: superconduttori HTc, rivestimenti ottici, dielettrici
- Sputtering reattivo, ablazione laser
- Crescita di ceramiche, Al2O3
- Pulizia a ossigeno
- Ossidazione cinetica
- Post growth oxidation/low temperature: SiO2
- Azoto
- Nitriding: GaN, AlN, InN, SiN
Dopaggio: ZnSe
Formazione di leghe: GaAlAsN
- Idrogeno
- Pulizia
- Miglioramento della crescita / surfactant
- Cloro
- Metano (carbonio)
Descrizione del prodotto:
La sorgente al plasma Mini ECR della SPECS è veramente compatibile con il vuoto ultra spinto (UHV). Completamente cuocibile, con una camera da vuoto interamente saldata e un raffreddamento eccezionale grazie a una camicia ad acqua a lunghezza intera, è adatta all'uso in livelli di vuoto che vanno dal vuoto spinto fino alle più difficili applicazioni MBE. Attraverso l'azione del ben noto fenomeno della risonanza elettrociclotronica, viene creato un plasma ad alta densità accoppiando un campo di microonde radialmente simmetrico a 2,45 GHz con gli ioni sulla superfice di una matrice magnetica multipolare a 86 mT. Una combinazione unica di caratteristiche e opzioni la rende una sorgente al plasma straordinariamente versatile.
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