Per il controllo dei processi e l'individuazione delle perdite
I processi sotto vuoto richiedono un preciso controllo della composizione dei gas e delle contaminazioni, per mantenere o migliorare la qualità dei prodotti e la produttività.
Sommario
Analizzatori di gas residui, RGA, vengono usati per controllare i processi e individuare le perdite, offrendo una visuale unica dell'ambiente dove avvengono. L'analisi delle pressioni dei residui, tra cui vapore acqueo, idrocarburi, composti organici volatili e perdite di aria è un'operazione di routine.
Il software permette una scansione del vuoto che individua i gas residui e gli andamenti delle pressioni parziali di varie specie, pressioni che vengono mostrate graficamente in tempo reale. L'individuazione delle perdite viene fatta con gas selezionabili dall'utilizzatore, come l'elio, per esempio. Soglie di allarmi che attivano delle linee di I/O permettono il perfetto controllo dei procesi.
I processi in vuoto in cui vengono utilizzati gli strumenti di Hiden Analytical comprendono:
Industria dei semiconduttori e dei film sottili:
- Magnetron sputtering
- ALD - deposizione di strati atomici
- CVD - deposizione chimica da vapore
- MOCVD - deposizione da fase vapore mediante metallorganici
- PECVD - deposizione chimica da vapore migliorata con il plasma
- MBE - epitassia da fasci molecolari
- RIE - incisione (etching) con ioni reattivi
- IBE/RIBE - incisione (etching) con fascio di ioni e con fascio di ioni reattivi
e praticamente tutti gli altri processi che vengono svolti in vuoto, tra cui:
- cottura sotto vuoto
- copertura in vuoto
- disidratazione
- glass coating
- sputter coating
Gli RGA della Hiden hanno di solito due modi di funzionamento, uno per processi che avvengono a pressioni fino a 5X10-3 mbar e uno per alto vuoto con un'elevata sensibilità per la diagnostica e la ricerca delle perdite. L'analizzatore di gas residui HMT è una soluzione economica per il controllo del vuoto che non richiede un pompaggio differenziale per funzionare.
Il HPR-30 è invece un sistema con pompaggio differenziale con un orifizio di campionamento rientrante che permette un'elevata sensibilità e rapidi tempi di misura dei cambiamenti della composizione del gas in processi in vuoti compresi tra 10-4 mbar e 5.